Plasmapuhdistus
| dc.contributor.author | Kupiainen, Oiva | |
| dc.contributor.department | fi=Fysiikan ja tähtitieteen laitos|en=Department of Physics and Astronomy| | |
| dc.contributor.faculty | fi=Matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta|en=Faculty of Science| | |
| dc.contributor.studysubject | fi=Fysikaaliset tieteet|en=Physical Sciences| | |
| dc.date.accessioned | 2025-04-17T21:30:12Z | |
| dc.date.available | 2025-04-17T21:30:12Z | |
| dc.date.issued | 2025-04-14 | |
| dc.description.abstract | Plasmapuhdistus on erilaisten pintojen puhdistukseen käytettävä menetelmä, joka perustuu plasman hiukkasten vuorovaikutukseen puhdistettavan pinnan kanssa. Tämän tutkielman tarkoituksena on antaa yleiskuva plasmapuhdistuksesta pintapuhdistusmenetelmänä ja kertoa joistakin sen sovelluksista eri aloilla. Tutkielmassa edetään plasman määritelmästä ja karakterisoinnista sen käyttöön puhdistusmenetelmänä. Tarkastelussa esitellään plasman keskeiset vaikutusmekanismit ja tuottomenetelmät. Lisäksi kuvataan plasmapuhdistuksen sovelluksia esimerkkien avulla ja arvioidaan menetelmän etuja sekä rajoitteita. | |
| dc.format.extent | 21 | |
| dc.identifier.olddbid | 197582 | |
| dc.identifier.oldhandle | 10024/180621 | |
| dc.identifier.uri | https://www.utupub.fi/handle/11111/2398 | |
| dc.identifier.urn | URN:NBN:fi-fe2025041728693 | |
| dc.language.iso | fin | |
| dc.rights | fi=Julkaisu on tekijänoikeussäännösten alainen. Teosta voi lukea ja tulostaa henkilökohtaista käyttöä varten. Käyttö kaupallisiin tarkoituksiin on kielletty.|en=This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited.| | |
| dc.rights.accessrights | avoin | |
| dc.source.identifier | https://www.utupub.fi/handle/10024/180621 | |
| dc.subject | plasmapuhdistus, plasma, pintapuhdistus, mikropiirit, sterilointi, konservointi | |
| dc.title | Plasmapuhdistus | |
| dc.type.ontasot | fi=Kandidaatintutkielma|en=Bachelor's thesis| |
Tiedostot
1 - 1 / 1