UV- ja US-käsittelyn vaikutus zirkonian ja litiumdisilikaatin pinnan kastuvuuden ja hiilivetykontaminaation muutoksiin
1.29 MB
avoin
Julkaisu on tekijänoikeussäännösten alainen. Teosta voi lukea ja tulostaa henkilökohtaista käyttöä varten. Käyttö kaupallisiin tarkoituksiin on kielletty.
Lataukset176
Pysyvä osoite
Verkkojulkaisu
DOI
Tiivistelmä
Keraamisia materiaaleja on käytetty jo vuosikymmeniä hammaslääketieteessä menetetyn hampaan kovakudoksen korvaamiseen. Puuttuvien hampaiden korvaamiseen käytetään nykyään enenevissä määrin implantteja, joiden valmistamiseen voidaan käyttää erilaisia keraamisia materiaaleja. Keraamisten materiaalien pintoihin voi muodostua ajan saatossa hiilivetykontaminaatioita, jotka voivat johtaa erinäisiin ilmeneviin ongelmiin proteettisessa hoidossa.
Tämän opinnäytetyön tarkoituksena oli selvittää keraamisten materiaalien zirkonian ja litiumdisilikaatin biologista ikääntymistä ja UV-käsittelyn sekä ultraäänipuhdistuksen (US) vaikutusta kyseisten materiaalien kastuvuuden muutoksiin. UV-fotofunktionalisaatio on noussut suureen suosioon keraamisten materiaalien pintaominaisuuksien parantamiseksi. Proteettisen hoidon edistämiseksi on tärkeää löytää erilaisia menetelmiä materiaalien ominaisuuksien parantamiseksi.
Tämän tutkimustyön perusteella voidaan todeta, että UV-käsittely vähentää zirkonian materiaalin pinnasta hiilivetykontaminaatioita tehden materiaalin pinnasta hydrofiilisemmän. Samankaltaista UV-käsittelyn vaikutusta litiumdisilikaatin materiaalin pintaan ei havaittu. Toisaalta materiaalien ultraäänipuhdistuksen todettiin poistavan huomattavasti molempien materiaalien pinnoista hiilivetykontaminaatioita tehden näistä hydrofiilisempiä. Tulokset voisivat olla hyödyllisiä hammaslääkäreille ja hammasteknikoille menetelmien soveltamiseksi materiaalien ominaisuuksien parantamiseksi. Jatkotutkimuksia tarvitaan edelleen kuitenkin UV-fotofunktionalisaation tarkemman mekanismin selvittämiseksi ja mahdollisesti soveltamiseksi muihin keraamisiin materiaaleihin tai hammaslääketieteellisiin tarkoituksiin.