ALD:ll a kasvatettujen Al2O3, ZrO2 ja HfO2 kalvojen ominaisuudet eri kasvatusolosuhteissa

Tietueen suppeat tiedot
dc.contributorMatemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta / Faculty of Mathematics and Natural Sciences, Fysiikan ja t ahtitieteen laitos, Fysiikka-
dc.contributor.authorUusitalo, Rami-Roope
dc.contributor.departmentfi=Fysiikan ja tähtitieteen laitos|en=Department of Physics and Astronomy|
dc.contributor.facultyfi=Matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta|en=Faculty of Mathematics and Natural Sciences|-
dc.contributor.studysubjectfi=Fysiikka|en=Physics|
dc.date.accessioned2017-05-10T09:16:55Z
dc.date.available2017-05-10T09:16:55Z
dc.date.issued2017-05-10
dc.description.abstractTässä Pro Gradu-tutkielmassa on kuvattu erilaisten metallioksidiohutkalvojen kasvatusmenetelmää ja -laitteistoa. Käytetty kasvatusmenetelmä on atomic layer deposition (ALD) ja käytetty laitteisto on itse rakennettu kokoonpano Turun Yliopiston Materiaalitieteiden laboratoriossa. Kasvatetut metallioksidikalvot olivat materiaaliltaan alumiinioksidia (Al2O3), zirkoniumoksidia (ZrO2) ja hafniumoksidia (HfO2).Tutkielmaa varten tehty tutkimus oli osa Innovaatiorahoituskeskus Tekesin rahoittamaa projektia COMNINT, joka keskittyi erilaisten rajapintarakenteiden parantamiseen ja kaupallistamiseen. Tutkimuksen tarkoituksena oli optimoida kasvatusparametrit, kuten kasvatuslämp otila ja pulssiaika, mainituille metallioksidikalvoille siten, että kasvatetut kalvot olisivat hyvin tasaisia. Näytteiden karakterisointiin käytettyihin mittalaitteisiin kuului röntgenherätteinen fotoelektronispektroskopi (XPS), spektroskopinen ellipsometri, röntgenrefl ektometri (XRR) ja atomivoimamikroskooppi (AFM). Parametrien optimointi on suoritettu muuttamalla niistä yhtä ja tarkastelemalla seurannutta muutosta mittaustuloksissa. Kaikki mittaustulokset on esitetty tutkielman liitekappaleessa.-
dc.description.notificationSiirretty Doriasta
dc.format.contentabstractOnly
dc.identifier.olddbid151185
dc.identifier.oldhandle10024/134880
dc.identifier.urihttps://www.utupub.fi/handle/11111/8688
dc.language.isofin-
dc.publisherfi=Turun yliopisto|en=University of Turku|
dc.source.identifierhttps://www.utupub.fi/handle/10024/134880
dc.titleALD:ll a kasvatettujen Al2O3, ZrO2 ja HfO2 kalvojen ominaisuudet eri kasvatusolosuhteissa-

Tiedostot

Kokoelmat

Opinnäytetöiden tiivistelmät (ei kokotekstiä)