Oxidation-Induced Changes in the ALD-Al2O3/InAs(100) Interface and Control of the Changes for Device Processing

Toimittaja(t)

American Chemical Society
Final draft
Re-revised_Manuscript.pdf - 1.28 MB
Lataukset96

Pysyvä osoite

https://urn.fi/URN:NBN:fi-fe2021042612620

Verkkojulkaisu

DOI

10.1021/acsami.8b17843

item.page.okmtext

Tietueen kaikki tiedot